エレクトロニクス
実装学会誌
第15巻第6号(通巻第103号)
2012年9月
ISSN1343-9677
目次

目次/CONTENTS


■ 巻頭言
−技術の選択
/日本アイ・ビー・エム 平 洋一

■ 特集/極限の技術を求めて!
特集に寄せて
/フジクラ 安東泰博 419
 空間分割多重を用いた超大容量光伝送技術の最新動向
/日本電信電話 高良秀彦,久保田寛和 420
 MIMO-OFDM無線通信技術(伝送速度/周波数利用効率の極限)
/大阪大学 阪口 啓 327
 将来のコンピューティング
/日本アイ・ビー・エム 平 洋一 430
 半導体光集積回路の進展と将来展望
/日本電信電話 松尾慎治,石井啓之 435
 磁気記録技術(記録密度の極限)
/HGST研究所 高野公史 439
 太陽光発電の極限を目指して
/太陽光発電技術研究組合 桑野幸徳 443
■ 平成24年技術賞受賞講演
 低消費電力1,060 nm 10 Gbit/s×12 ch並列光モジュール
/古河電気工業  那須秀行,根角昌伸,石川陽三,吉原正和,伊澤 敦,上村寿憲,池永賀彦 447
 スーパーコンピュータ「京」に適用した高性能システムボード用配線板技術の開発
/富士通アドバンストテクノロジ 中村直樹,福田 孝,松井亜紀子,山田哲郎,富士通インターコネクトテクノロジーズ 山内 仁,柏 武文,切中将樹, 453
■ 研究論文
 高速デジタル回路におけるチップ部品パッド直下のグラウンドクリアランスサイズの簡易計算式の提案
/富士ゼロックス 奈良茂夫 461
 パワーモジュールにおけるソルダリング部のボイド低減
/三菱電機 藤野純司,加柴良裕,大阪大学  福本信次,藤本公三 470
 銅の堆積とフェムト秒レーザ光照射を用いた石英ガラス表面へのナノ構造形成メカニズムに関する研究
/大阪大学,パナソニック 田中健一郎,大阪大学,ヤンマー  寺田ルリ子,大阪大学  藤本公三 476
■ 速報論文
ドリフト拡散デバイスシミュレーションを用いた1軸負荷に起因するnMOSFETの電気特性変動評価手法
/福岡県工業技術センター 小金丸正明,京都大学 吉田圭佑,多田直弘,池田 徹,宮崎則幸,福岡大学 友景 肇 483
■ 講座 「最新の分析・計測技術/第2期」第2回
中性子反射率法による薄膜の界面構造解析
/日本原子力研究開発機構 武田全康 492
■ 研究室訪問
東京工芸大学工学部生命環境化学科 松本研究室
/東京工芸大学 松本利彦 500

学会新役員のご紹介 502
本会だより 504
編集後記 506
会告 (1)〜(5)
入会申込書 (6)

■ 編集委員会
  委員長 ・ 平 洋一  副委員長 ・ 山中 公博,王 建青
  委員(五十音順) ・ 赤星 晴夫,安東 泰博,伊藤 寿浩,碓氷 光男,榎   学,海老原理徳,折井 靖光,越地 耕二 ,澤田 廉士,白石 洋一,塚田  裕,塚本 健人,宝蔵寺裕之,箕輪 俊夫

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